氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具
氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。
中文名称:三氟化氮
英文名称:Nitrogen trifluoride
中文别名:氟化氮;
英文别名:232-007-1; trifluoroamine
CAS号:7783-54-2
分子式:F3N
分子量:71.0019
物理性质：
1.性状：无色、带霉味的气体。
2.熔点（oC）：-208.5
3.沸点（oC）：-129
4.相对密度（水=1）：1.89（沸点，液体）
5.相对蒸气密度（空气=1）：2.45
6.临界温度（oC）：-39.3
7.临界压力（MPa）：4.53
8.溶解性：不溶于水。
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